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Nd：YAG和Nd：YVO4激光器
- 產(chǎn)品型號：
- 更新時間：2023-12-21
- 產(chǎn)品介紹：Nd：YAG或Nd：YVO4弱激光線的組件摻釹晶體顯示出不同波長的激光躍遷。表1概述了常見的Nd摻雜材料Nd：YAG和Nd：YVO4的激光波長。Nd：YAG和Nd：YVO4激光器
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產(chǎn)品介紹
| 品牌 | 其他品牌 | 價格區(qū)間 | 面議 |
|---|---|---|---|
| 組件類別 | 光學(xué)元件 | 應(yīng)用領(lǐng)域 | 醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,電子/電池,綜合 |
Nd：YAG或Nd：YVO4弱激光線的組件
摻釹晶體顯示出不同波長的激光躍遷。表1概述了常見的Nd摻雜材料Nd：YAG和Nd：YVO4的激光波長。
Nd:YAG | Nd:YVO4 | ||
Laser line | Second harmonic | Laser lines | Second harmonic |
946 nm | 473 nm | 915 nm | 457 nm |
1064 nm | 532 nm | 1064 nm | 532 nm |
1123 nm | 561 nm | ||
1319 nm | 659 nm | 1340 nm | 670 nm |
表1：Nd：YAG和Nd：YVO4的二次諧波的激光線和相應(yīng)波長
可以看出，可以從這些晶體獲得VIS和NIR中的各種激光線。此現(xiàn)象用于構(gòu)建緊湊的二極管泵浦的固態(tài)激光器，該激光器具有多種波長，可用于測量應(yīng)用以及投影系統(tǒng)（RGB激光器）。兩種材料中強(qiáng)的激光躍遷是1064nm線。其他波長的有效激光輻射只有通過抑制這條線才能實(shí)現(xiàn)。LAYERTEC為此應(yīng)用提供了各種激光鏡。
緊湊型激光器設(shè)計(jì)還包括泵浦二極管（808nm）和用于產(chǎn)生二次諧波的單元。這就是為什么為什么Nd：YAG或Nd：YVO4波長為1064nm的涂層大部分顯示出幾個具有高透射率和高反射率的光譜區(qū)域。在下文中，我們給出了這種涂層的一些例子。所有涂層均根據(jù)客戶規(guī)格進(jìn)行設(shè)計(jì)，因?yàn)橐?guī)格取決于激光設(shè)計(jì)。這些頁面上的所有示例均適用于Nd：YAG波長。Nd：YVO4的涂層也可以設(shè)計(jì)和生產(chǎn)。
圖1：雙波長反射鏡在弱激光線及其二次諧波的反射光譜中具有高透射率，對于泵浦波長和強(qiáng)激光線：
HR（0°，473nm）> 99.85％+ HR（0°，946nm）> 99.95％+ R（0°，808nm）<2％+ R（0°，1064nm）<5％
圖2：對于泵浦波長，具有高透射率的二向色鏡的反射光譜也抑制了1064nm線：
HR（0°，1123nm）> 99.9％+ R（0°，561nm）<2％+ R（0°，808nm）<10％+ R（0°，1064nm）<50％
圖3：對于泵浦波長和二次諧波具有高透射率的薄膜偏振片的反射光譜，這也抑制了1064nm線：
HRs（56°，1123nm）> 99.9％+ Rp（56°，1123nm）<50％+ Rs，p（56°，561 + 808nm）<10％+ Rs，p（56°，1064nm）<50％
圖4：二向色鏡的反射光譜，對于NIR波長具有高反射率，并且對于相應(yīng)的二次諧波波長具有高透射率：
HR（0°，1064 + 1123 + 1319nm）> 99.9％+ R（0°，532–561 + 659nm）<2％
Nd：YAG和Nd：YVO4激光器的三次諧波分量
Nd：YAG和Nd：YVO4激光的三次諧波在材料加工以及測量應(yīng)用以及作為光學(xué)參量振蕩器的泵浦源方面越來越重要。在這些頁面上，我們介紹了355nm的光學(xué)器件：單波長和多波長反射鏡，分離器，薄膜偏振片和抗反射涂層。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算。
圖1：垂直入射的單波長鏡的反射光譜（a）和轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（b）
圖2：355nm和532nm雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和355nm，532nm和1064nm的三重波長轉(zhuǎn)向鏡（b）
圖3：二次諧波和地面波長的三次諧波的分離器反射光譜：
（a）：標(biāo)準(zhǔn)型
（b）：分離器經(jīng)過特別優(yōu)化，可在1064nm下實(shí)現(xiàn)低反射率
有關(guān)紫外線光譜范圍內(nèi)諧波的隔離器的通用規(guī)格，請參見本網(wǎng)站上的表格。
請不要猶豫與我們聯(lián)系以獲得其他入射角的隔板或反光鏡。
圖4：從二次諧波到地面波長的三次諧波的特殊分離器的反射光譜：
（熒光分離器HRs（45°，355nm）> 95％+ Rp（45°，532nm）<2％+ Rs，p（45°，1064nm）<2％
（b）HR（45°，532nm）> 99.8nm + R（45°，355nm）<5％
熒光分離器在高功率密度下顯示出延長的使用壽命。
圖5：355nm薄膜偏振片的反射光譜：HRs（55°，355nm）> 99％+ Rp（55°，355nm）<5％
可以通過角度調(diào)整來優(yōu)化p偏振光的透射率。將偏振片傾斜±2°，可使Rp的最小值移至更長或更短的波長，這可以顯著提高偏振比。
圖6：針對AOI = 0°至30°（a）優(yōu)化的355nm單波長增透膜和355nm，532nm和1064nm熔融石英上的三波長增透膜的反射光譜。
Nd：YAG和Nd：YVO4激光二次諧波的組件
Nd：YAG和Nd：YVO4激光的諧波被廣泛用于材料加工以及測量應(yīng)用。此外，Nd：YAG激光器的二次諧波通常用作Ti：Sapphire激光器的泵浦源。在這些頁面上，我們介紹532nm的光學(xué)器件：雙波長鏡，分離器，薄膜偏振片和非偏振分束器，以及用于不同配置的緊湊型二極管泵浦激光器的腔光學(xué)器件。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算。
圖1：泵浦波長（808nm）具有高透射率的雙波長腔鏡的反射光譜（a）和雙波長轉(zhuǎn)向鏡（b）
圖2：分離器的反射光譜，該反射光譜來自地面波長的二次諧波：
（a）：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532 + 808nm）<3％
（b）：HRs + p（45°，532nm）> 99.9％+ Rs + p（45°，808 + 1064nm）<2％
圖3：薄膜偏振片（a）和非偏振分束器（b）在532nm處的反射光譜，Rs = Rp = 50±2％（| Rs-Rp | <3％）
通過改進(jìn)的腔衰蕩設(shè)置，可以高精度測量用于p偏振光的薄膜偏振片的透射率。
圖4：二次諧波和地波產(chǎn)生的三次諧波分離器的反射光譜（a）以及355nm和532nm的雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（b）
有關(guān)紫外線光譜范圍內(nèi)諧波的隔離器的通用規(guī)格，請參見本網(wǎng)站上的表格。請不要猶豫與我們聯(lián)系以獲得其他入射角的隔板或反光鏡。
圖5：1064nm的HR反射鏡的反射光譜，也是532nm的輸出耦合器：HR（0°，1064nm）> 99.9％+ R（0°，532nm）= 99％
非線性光學(xué)晶體上的涂層
非線性光學(xué)晶體是頻率轉(zhuǎn)換的關(guān)鍵要素。 LAYERTEC在KTP和鈮酸鋰等晶體上提供各種涂層。
圖6：KTP上的雙重抗反射涂層在532nm和1064nm處的反射光譜
Nd：YAG和Nd：YVO4激光的高次諧波組件
Nd：YAG和Nd：YVO4激光的諧波被廣泛用于材料加工以及測量應(yīng)用。在這些頁面上，我們介紹了用于第四次諧波（266nm）和第五次諧波（213nm）的雙波長反射鏡和分離器。所有設(shè)計(jì)均根據(jù)客戶要求進(jìn)行計(jì)算。
圖1：圖1：266nm和355nm雙波長轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和長波諧波和地面波長的四次諧波的分離器（b）
F
圖2：從長波長諧波和地面波長（b）測得的五次諧波轉(zhuǎn)向鏡的反射光譜（a）和五次諧波分離器的反射光譜；CaF2上的氟涂層
Separator | Centre | Reflectance at centre | Reflectance at the corresponding longer | ||||||||
266nm | 355nm | 532nm | 1064nm | ||||||||
Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | Rs | Rp | ||
3rd harmonic | 355nm | > 99.7 | > 99 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | ||||
4th harmonic | 266nm | > 99.7 | > 99 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 | ||
5th harmonic | 213nm | > 97 | > 93 | < 5 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 | < 10 | < 2 |
表1：紫外線諧波分離器的通用規(guī)格
* CaF2上的氟涂層
圖3：二次諧波與第四次諧波分離器的反射光譜：
（a）：HR（0°，532nm）> 99.5％+ R（0°，266nm）<10％（背面未鍍膜）
（b）：HR（0°，532nm）> 99.9％+ R（0°，266nm）<5％（背面未鍍膜）
266nm的組件通常通過電子束蒸發(fā)產(chǎn)生。這些涂層顯示出很高的損傷閾值，但是在可見光譜范圍內(nèi)的反射率被限制為R> 99.5％（見圖3a）。關(guān)于用于紫外線的濺射涂層的新研究結(jié)果表明，可以生產(chǎn)出在VIS中具有明顯改善的反射率的隔離膜，它們在紫外線下具有相似的特性（見圖3b）。
圖4：第四和第五諧波的隔板的反射光譜：
對于非偏振光，HRr（45°，266nm）> 98％+ Rr（45°，213nm）<10％
a）為低雜散損耗而優(yōu)化的氧化物涂層（背面未涂層）
b）氟化物涂層具有較高的激光誘導(dǎo)損傷閾值（背面未涂層）
213nm的五次諧波是氧化物涂層的關(guān)鍵波長，因?yàn)檠趸X的吸收邊緣始于該波長范圍。對于高功率應(yīng)用，我們建議根據(jù)ArF準(zhǔn)分子激光鏡技術(shù)生產(chǎn)的氟化鈣上的氟化涂層。
圖5：薄膜偏振片在266nm（a）和213nm（b）的反射光譜：
a）HR（56°，266nm）> 98％+ Rp（56°，266nm）<1％
b）HR（56°，213nm）> 97％+ Rp（56°，213nm）<5％;
請注意，由于上述集合損失，Tp只有75％左右
磁控濺射使我們能夠?yàn)镹d：YAG激光器的第四和第五諧波提供薄膜偏振片。
